High Dielectric Constant Materials
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Issues relating to the high-K gate dielectric are among the greatest challenges for the evolving International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS). More than just an historical overview, this book will assess previous and present approaches related to scaling the gate dielectric and their impact, along with the creative directions and forthcoming challenges that will define the future of gate dielectric scaling technology.
| Autor: | H.R. Huff, D.C. Gilmer |
|---|---|
| EAN: | 9783540264620 |
| eBook Format: | |
| Sprache: | Englisch |
| Produktart: | eBook |
| Veröffentlichungsdatum: | 02.11.2005 |
| Untertitel: | VLSI MOSFET Applications |
| Kategorie: | |
| Schlagworte: | CMOS Leistungsfeldeffekttransistor Technologie VLSI circuit dielectrics electronic structure field-effect transistor history integrated circuit material metal oxide semiconductur field-effect transistor semiconductor silicon transistor |
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